工艺方案

工艺方案

点胶设备详细介绍

点胶设备详细介绍

摘要:本文介绍了点胶设备的功能、分类、构成、选型原则、工作原理与性能特点,并以2种典型的点胶方式介绍了点胶过程中常见问题和设备参数优化方法。 随着胶粘技术的发展及应用领域越来越广,胶粘剂的点胶方式正在向机械化、自动化和高精度化方向发展。作为胶粘剂研发和应用人员,需要对常用点胶设备的组成、功能有全面的认识和了解,能够针对...

半导体清洗工艺

半导体清洗工艺

一、引言上世纪50年代以后,随着离子注入、扩散、外延生长和光刻四种基本工艺的发明,半导体工艺逐渐发展起来。芯片被颗粒和金属污染,容易导致短路或开路等失效,因此除了在整个生产过程中避免外部污染外,在制造过程中(如高温扩散和离子注入等)都需要湿法或干法清洗。这些清洗工作涉及使用化学溶液或气体去除残留在晶圆上的颗粒物、金属离...

plasma技术详解

plasma技术详解

1、什么是等离子体(Plasma)(四川半导体设备)Plasma是物质的第四种状态气相混合体中性的、具有物理活性和化学惰性的一类物质2、Plasma的组成(半导体自动化)a. 电子Electronsb. 离子Ions– 正离子Positive• Ar + e- = Ar+ + 2e-– ...

SIP产品植球工艺过程

SIP产品植球工艺过程

摘要SiP是(System In Package)的简称,中译为系统级封装。(四川封装技术)随着科技的发展,电子系统的发展趋势是小型化、高性能、多功能、高可靠性和低成本,在这些需求的强力驱动下,全球电子产品渐渐走向多功能整合及低功耗设计,因而使得可将多颗裸芯片整合在单一封装中的SiP技术日益受到关注。(半导体设备)植球...

扇出型晶圆级封装技术详解

扇出型晶圆级封装技术详解

扇出型晶圆级封装技术采取在芯片尺寸以外的区域做I/O接点的布线设计,提高I/O接点数量。采用RDL工艺让芯片可以使用的布线区域增加,充分利用到芯片的有效面积,达到降低成本的目的。扇出型封装技术完成芯片锡球连接后,不需要使用封装载板便可直接焊接在印刷线路板上,这样可以缩短信号传输距离,提高电学性能。(成都划片机)扇出型晶...

IGBT平面型与沟槽型的解析

IGBT平面型与沟槽型的解析

在现今IGBT表面结构中,平面型和沟槽型可谓是各占半壁江山。很多读者第一次接触到这两个名词的时候,可能会顾名思义地认为,平面型IGBT的电流就是水平流动的,而沟槽栅IGBT的电流就是在垂直方向上流动的。其实这是一个误解,不论平面型还是沟槽型的IGBT,电流都是在垂直方向上流动的。甚至于推而广之,不论IGBT,MOSFE...

功率器件半导体小知识

功率器件半导体小知识

一、功率器件在半导体产业中的位置(成都半导体设备)功率半导体器件,简称功率器件,又称电力电子器件,属于半导体产品中的分立器件。功率集成电路也就是如下图的【功率IC】,典型产品有【电源管理芯片】和【各类驱动芯片】等,属于半导体产品中的集成电路。【功率器件】和【功率IC】共同组成规模数百亿美元的功率半导体市场,其重要性相当...

简单看懂芯片制造全过程

简单看懂芯片制造全过程

一分钟看懂芯片制造全过程!作为芯片生产过程中最关键设备的光刻机,有着极高的技术壁垒,有“半导体工业皇冠上的明珠”之称,代表着人类文明的智慧结晶。在芯片这样一个争分夺秒的行业里,时间就是金钱。据ASML官方介绍,ASML也一直在追求光刻机极致的速度,目前最先进的DUV光刻机,每小时可以完成300片晶圆的光刻生产。换算一下...